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appunti di bionanotecnologie
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Tecniche litografiche tradizionali per la nanofabbricazione includono esposizione alla luce UV o raggi X, elettrospinning, elettrospray. La litografia tradizionale implica stesura del resist, esposizione, sviluppo, e include tecniche come spin coating, spray coating, meniscus coating, eletrodiposiizione, roll coating, curtain coating, e extrusion coating. Soft baking serve a ridurre il solvente e migliorare l'adesione. Esposizione con maschere a contatto o in prossimità per trasferire pattern binari o di grigio su substrati ricoperti di resist foto sensibile.
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- Tecniche litografiche: trasferimento di un disegno preciso da una maschera su uno strato polimerico sul substrato.
- Processi litografici chiave: lucidatura del wafer, esposizione alla radiazione (UV o X-rays), sviluppo selettivo del resist.
- Tecniche di esposizione: in contatto, a distanza per proiezione, maschere a scale di grigio per ottenere geometrie complesse.
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